薄膜物理与技术

　　第一章 真空技术基础
　　§1-1 真空的基本知识
　　§1-2 稀薄气体的基本性质
　　§1-3 真空的获得
　　§1-4 真空的测量
　　第二章 真空蒸发镀膜法
　　§2-1 真空蒸发原理
　　§2-2 蒸发源的蒸发特性及膜厚分布
　　§2-3 蒸发源的类型
　　§2-4 合金及化合物的蒸发
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　　    《高等学校工科电子类规划教材：薄膜物理与技术》主要论述薄膜的制造技术与薄膜物理的基础内容。书中系统介绍了各种成膜技术的基本原理与方法，包括蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀、化学气相沉积、溶液制膜技术以及膜厚的测量与监控等。同时介绍了薄膜的的形成，薄膜的结构与缺陷，薄膜的电学性质、力学性质、半导体特性、磁学性质以及超导性质等。论述中注重基本概念的阐述，叙述尽量深入浅出，并注意到原理与技术相联系，理论与实践相结合。
　　    《高等学校工科电子类规划教材：薄膜物理与技术》为电子材料与元器件专业的规划教材，亦可作为物理电子技术、半导体物理与器件、应用物理等专业的教材或教学参考书，同时亦可供从事电子元器件、混合集成电路的工程技术人员参考使用。

　　第一章 真空技术基础
　　§1-1 真空的基本知识
　　§1-2 稀薄气体的基本性质
　　§1-3 真空的获得
　　§1-4 真空的测量
　　第二章 真空蒸发镀膜法
　　§2-1 真空蒸发原理
　　§2-2 蒸发源的蒸发特性及膜厚分布
　　§2-3 蒸发源的类型
　　§2-4 合金及化合物的蒸发
　　§2-5 膜厚和淀积速率的测量与监控
　　第三章 溅射镀膜
　　§3-1 溅射镀膜的特点
　　§3-2 溅射的基本原理
　　§3-3 溅射镀膜类型
　　§3-4 溅射镀膜的厚度均匀性
　　第四章 离子镀膜
　　§4-1 离子镀原理
　　§4-2 离子镀的特点
　　§4-3 离子轰击的作用
　　§4-4 离子镀的类型
　　第五章 化学气相沉积
　　§5-1 化学气相沉积的基本原理
　　§5-2 化学气相沉积的特点
　　§5-3 CVD方法简介
　　§5-4 低压化学气相沉积
　　§5-5 等离子体化学气相沉积
　　§5-6 其他化学气相沉积法
　　第六章 溶液镀膜法
　　§6-1 化学反应沉积
　　§6-2 阳极氧化法
　　§6-3 电镀法
　　§6-4 LB膜的制备
　　第七章 薄膜的形成
　　§7-1 凝结过程
　　§7-2 核形成与生长
　　§7-3 薄膜形成过程与生长模式
　　§7-4 溅射薄膜的形成过程
　　§7-5 薄膜的外延生长
　　§7-6 薄膜形成过程的计算机模拟
　　第八章 薄膜的结构与缺陷
　　§8-1 薄膜的结构
　　§8-2 薄膜的缺陷
　　§8-3 薄膜结构与组分的分析方法
　　第九章 薄膜的性质
　　§9-1 薄膜的力学性质
　　§9-2 金属薄膜的电学性质
　　§9-3 介质薄膜的电学性质
　　§9-4 半导体薄膜的性质
　　§9-5 薄膜的其他性质
　　参考文献
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　　    《高等学校工科电子类规划教材：薄膜物理与技术》主要论述薄膜的制造技术与薄膜物理的基础内容。书中系统介绍了各种成膜技术的基本原理与方法，包括蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀、化学气相沉积、溶液制膜技术以及膜厚的测量与监控等。同时介绍了薄膜的的形成，薄膜的结构与缺陷，薄膜的电学性质、力学性质、半导体特性、磁学性质以及超导性质等。论述中注重基本概念的阐述，叙述尽量深入浅出，并注意到原理与技术相联系，理论与实践相结合。
　　    《高等学校工科电子类规划教材：薄膜物理与技术》为电子材料与元器件专业的规划教材，亦可作为物理电子技术、半导体物理与器件、应用物理等专业的教材或教学参考书，同时亦可供从事电子元器件、混合集成电路的工程技术人员参考使用。